名词解释

EL(Energy Latitude)

• 表征了图形 CD 在一定 tolerance 范围内 dose 能够变化的比例
• EL 意为曝光容忍度，也称为曝光裕度，是工艺窗口的重要参数之一，光学曝光系统可以形成符合设计版图要求的曝光能量范围
• 通常使用曝光结果检测的 CD 值在 10% 变化范围内的曝光能量选择范围来定义。即如果抗蚀剂在偏离最佳曝光能量的情况下，图形线宽变化较小的，说明该抗蚀剂有较大的曝光宽容度。
• EL 越大越好，EL 越大，意味着 Process Window 越大

在计算 EL 时，需要用到 best Energy，这个值是从 cd-energy 折线图中计算而得，知道了 target cd，此时需要的 energy 就可得

焦距能量矩阵（Focus Energy Matrix， FEM）

• 在进行曝光时，从一个方向以固定的步长改变聚焦值（focus），另一个方向以固定的步长改变曝光能量（Energy），所得的图形线宽的二维数据表格
• 用来检查光刻工艺窗口和确定最佳曝光条件的测试方法，通过在一个硅片上不同的区域使用不同的曝光能量和焦距，可以产生不同工艺条件的组合
• 通过此方法可以在硅片上进行实验确定聚焦深度，曝光量所允许的范围和最佳焦距（best focus）、最佳曝光能量（best Energy），以确定最佳光刻工艺窗口（Process Window）。

Fab 产品名词

• NTO：首次全掩模工程产品流片（NTO）是指当制造流程和技术参数都已经确定后，首次进行的全掩模制造。这意味着整个晶圆上生产的都是同一种芯片设计
• TQV：内部用于工艺测试验证的图形，Technology Qualification Vehicle，早期工艺开发抓手。
• MPW：多项目晶圆流片，由不同小客户出 chips，出一张 mask，搭便车，节省成本，在一片晶圆上同时生产不同的芯片。
• TestKey：一些重复周期性图形，fab 内部如 PIE 部门测试用。